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荏原水泵技術在半導體產業應用作者：泵友圈
自中國國務院印發《國家集成電路產業發展推進綱要》以來，集成電路產業的發展上升為國家戰略，為推動其發展，國家專門設立了中國集成電路產業投資基金，在龐大資金與相關配套政策扶植下，當前半導體行業正在興起新一波的建設熱潮。預計 2017-2020 年間全球將投產62 座半導體晶圓廠，其中 26 座設于中國大陸， 占全球總數 42%。荏原在上世紀70年代末日本半導體產業發展過程中就針對半導體產業的工藝流程進行深入研究，并與日立、 三菱、富士通、東芝、日本電氣等公司開展深入合作，對半導體生產過程中純水制造、純水輸送、廢水處理工藝中提供可靠、安全的泵類產品，并在空調系統中提供高效率、運行穩定的泵類產品；發展至今荏原是可以在半導體行業中提供完整、可靠、高效的泵類產品解決方案的完美供應商。 1 公用動力系統 為應對能源挑戰，提高資源利用效率，荏原創新發布新一代高效CB臥式雙吸泵。新一代雙吸泵具有效率高，成本低，汽蝕性能卓越，并且維護簡單等特點。
在已發售的 GS 型、GSS 型基礎上，荏原充分運用在標準泵事業中積累的標準化和量產技術以及在定制泵事業中積累的工程技術，開發出了符合化工泵國際標準 ISO2858、ISO5199的 GSO 型新產品。該產品將作為涵蓋清水以及化學溶液等各種介質的 GS 系列全球核心產品，具有以下特點：
2 超純水制造和輸送工藝 我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級。高純水的國家標準為：GB1146.1-89至GB1146.11-89 ，高純水的電子級水分為五個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級和Ⅴ級，該標準是參照ASTM電子級標準而制定的。電阻分別對應為：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
超純水的水質標準中所規定的各項指標的主要依據有：（1）微電子工藝對水質的要求；（2）制水工藝的水平；（3）檢測技術的現狀。
超純水在電子元器件生產中的重要作用日益突出，超純水水質已經成為影響電子元器件產品質量、生產成品率以及生產成本的重要因素之一，水質要求也是越來越高。在電子元器件的生產過程當中，超純水主要用作清洗用水以及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件在生產過程中純水的用途及對水質的要求也略有不同。因此電子行業的生產用水離不開超純水設備，這也是電子行業為什么用超純水設備的原因。 荏原FSSC/GSO/GSS/產品不僅結構穩定，而且完美解決超純水潔凈度和機封耐高溫情況。
潔凈度：超純水生產制備工藝復雜、制備成本較高且水質對芯片生產的良品率至關重要，為了杜絕水泵生產過程過流部件可能存在的污染荏原純水環節應用水泵在性能試驗完畢后，會對水泵拆解、各部品禁油（脫脂）處理清潔水泵。 機封耐高溫：超純水又稱為UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水，除了水分子外幾乎沒有雜質，水質很澀，對于機封的潤滑極為不利，沒有了良好的潤滑機封的摩擦面溫度會升高、變軟，為了解決機封耐磨、耐高溫情況荏原采用WC/WC機械密封，這種機封具有足夠的強度、剛度、耐磨性和導熱性。 3 晶圓清洗 晶圓處理制程是半導體生產流程中技術最復雜且資金投入最多的環節，而晶圓清洗在晶圓處理制程中起到至關重要的作用。 由于集成電路內各元件及連線相當微細，因此制造過程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。 因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，集成電路制造步驟如高溫擴散、離子植入前等均需要進行濕法清洗或干法清洗工作。另外，清洗劑因PH值不同對泵的要求也有差異，荏原豐富的泵產品既可滿足純水的傳輸要求，也可應對一般酸堿性介質。
4 廢水處理 半導體的制造工廠包含上百個生產工藝，其產生的污水種類較多，對泵的耐腐蝕性有很高的要求。從一般性酸堿污水到研磨廢水，荏原均有滿足客戶需求的高品質產品。荏原除了耐腐蝕性金屬泵之外，其領先的樹脂水泵在應對強酸強堿類介質方面擁有優異表現。
當前，荏原機械已經成功助力多家國內外半導體行業巨頭的生產建設，在行業中具有很高的聲譽及競爭力。 未來，荏原機械將緊隨中國半導體行業的發展步伐，從整個產業鏈中尋求合作機會，同時不斷推出“穩定、高效、長壽命”的產品，為中國半導體事業的發展貢獻一份力量。
5 相關榮譽 2009年全球最大的芯片代工企業臺積電高級副總裁及CIO Stephen Tso授予荏原最優秀產品獎。 2019年美國英特爾公司授予荏原公司Supplier Achievement Award，簡稱：SAA 該獎章是英特爾公司授權在其重視領域取得卓越業績的供應商企業，以表彰該企業在業界發揮的重要領導作用
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